久久精品国产亚洲AV无码男同,欧美成人ⅴideosxxxxx,性久久久久久久久

技術(shù)中心

偏貼的主要工藝參數(shù)、偏貼設備、材料及返修工藝

摘要：偏光片貼附LCD/OLED上下面，起偏光作用，偏光片使自然光變成線偏振光。貼片工序原理貼片工序主要是將偏光片表面的離心膜剝離之后，承載單元移動過程中，貼附Roller將偏光片貼在panel上下表面。（貼附動作如圖）貼片動作圖示偏貼設備構(gòu)成和性能指標偏光

閱讀：70402018年01月05日 10:24:30

技術(shù)中心

Cell工藝段中清洗與切割的原理方法及設備剖析

摘要：PI前清洗 PI前清洗的作用就是對需要印刷的基板進行事先的清洗，以保證在印刷時的良好效果和高的良品率。清洗前的基板上的污染物，主要來自于ITO膜層、TFT陣列等制備工藝過程，以及玻璃基板的搬運、包裝、運輸、存儲過程。主要的污染物有塵埃粒子、纖維、礦

閱讀：72012017年12月29日 09:42:00

技術(shù)中心

OLED主要設備/材料詳細規(guī)格及廠房規(guī)劃合輯

摘要：主要設備部分設備規(guī)格（僅供參考）設備名稱：自動曝光顯影生產(chǎn)線加工產(chǎn)品：玻璃基板加工產(chǎn)品尺寸： 370470 mm，370400 mm，厚度：0.5~1.1mm 操作時間： 60 秒/每片操作人員：每班 3 人（3 班）工程師：每班 1 人（3 班）設備尺寸見下圖：設備名稱

閱讀：48812017年12月27日 09:22:25

技術(shù)中心

AMOLED的色彩設計與畫質(zhì)提升解決方法剖析

摘要：AMOLED發(fā)光原理發(fā)光器件設計原則 AMOLED成像要素顯示面板的功能就是圖像顯示，所以談到面板的技術(shù)參數(shù)，成像是繞不過去的一關。視覺世界里最重要的屬性是亮度和色彩。顯示器可以發(fā)出紅色、綠色、藍色三種波長的光，并控制這三種光的比例，屏幕上的所有顏

閱讀：69352017年12月26日 09:02:02

技術(shù)中心

武漢大學新研究：橙紅光OLED效率達到29.2%

摘要：最近，熱活化延遲熒光（TADF）材料以其獨特性能獲得廣泛關注，被認為是繼傳統(tǒng)熒光材料和重金屬配合物磷光材料之后最具有發(fā)展?jié)摿Φ牡谌l(fā)光材料。在過去幾年中，TADF材料的電致發(fā)光性能獲得了長足進步。在天藍光區(qū)域，其外量子效率（EQE）已接近37%；在綠

閱讀：44632017年12月22日 14:12:51

技術(shù)中心

【科普】被譽為未來主流：超聲波指紋識別技術(shù)可以這樣來理解！

摘要：隨著指紋識別的廣泛應用，尤其是在移動支付領域的應用，指紋識別的安全性問題開始受到關注。目前智能手機使用的電容式指紋傳感器捕捉的是手指表面的二維圖像，損失了指紋紋理深度的特征。用黏土制造假指紋用于解鎖：超聲波指紋技術(shù)原理超聲波指紋技術(shù)的

閱讀：62752017年12月18日 10:07:10

技術(shù)中心

摘要：器件基本結(jié)構(gòu) OLED器件基本結(jié)構(gòu)為多層型，多層型可以是具有異質(zhì)界面的迭層型結(jié)構(gòu)和模糊界面層型結(jié)構(gòu)。有機電致發(fā)光器件實際上又可以分為多種器件結(jié)構(gòu)，這些結(jié)構(gòu)是為了適應材料性能和器件性能要求而設計的。某些結(jié)構(gòu)在提高發(fā)光效率和性能穩(wěn)定性方面是相當重

閱讀：62382017年12月15日 10:52:38

技術(shù)中心

【屏下指紋識別】技術(shù)分類、封裝及工藝流程匯總

摘要：前段時間，半導體巨頭博通提出收購要約，擬斥資1000 億元收購高通，該交易一旦成功將是半導體行業(yè)最大的一筆并購案。而生物識別公司FPC 也在瑞典發(fā)布了屏內(nèi)指紋識別方案，該技術(shù)可以在智能手機顯示面板的任意位臵補貨與識別應用者的指紋。這種屏內(nèi)指紋識別

閱讀：62322017年11月20日 09:56:39

技術(shù)中心

占據(jù)面板成本1/4的關鍵組件！CF制程、檢測及工藝流程圖匯總

摘要：Color Filter(彩色濾光片)是組成面板中最重要的關鍵零組件，占面板制造總成本約四分之一，制造生產(chǎn)方式是在素玻璃基板上用紅、綠、藍色的光阻液原料,用黃光蝕刻方式或是其它技術(shù)(如顏料分散或轉(zhuǎn)印方法)形成與紅、綠、藍三原色的長條形數(shù)組的基板。當背面的

閱讀：114962017年11月14日 08:51:43

技術(shù)中心

「面板制程刻蝕篇」最全Dry Etch 分類、工藝基本原理及良率剖析

摘要：Dry Etch工序的目的廣義而言，所謂的刻蝕技術(shù)，是將顯影后所產(chǎn)生的光阻圖案真實地轉(zhuǎn)印到光阻下的材質(zhì)上，形成由光刻技術(shù)定義的圖形。它包含了將材質(zhì)整面均勻移除及圖案選擇性部分去除，可分為濕式刻蝕(wet etching)和干式刻蝕(dry etching)兩種技術(shù)。濕式

閱讀：399532017年11月12日 14:24:00